首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   692篇
  免费   160篇
  国内免费   105篇
化学   484篇
晶体学   18篇
力学   39篇
综合类   16篇
数学   68篇
物理学   332篇
  2024年   1篇
  2023年   3篇
  2022年   10篇
  2021年   8篇
  2020年   23篇
  2019年   14篇
  2018年   11篇
  2017年   14篇
  2016年   23篇
  2015年   30篇
  2014年   30篇
  2013年   52篇
  2012年   62篇
  2011年   61篇
  2010年   59篇
  2009年   45篇
  2008年   68篇
  2007年   45篇
  2006年   38篇
  2005年   36篇
  2004年   31篇
  2003年   47篇
  2002年   56篇
  2001年   51篇
  2000年   33篇
  1999年   30篇
  1998年   15篇
  1997年   8篇
  1996年   5篇
  1995年   7篇
  1994年   2篇
  1993年   4篇
  1992年   5篇
  1991年   6篇
  1990年   4篇
  1989年   3篇
  1987年   2篇
  1985年   2篇
  1984年   3篇
  1983年   2篇
  1982年   3篇
  1980年   1篇
  1974年   1篇
  1973年   1篇
  1966年   1篇
  1957年   1篇
排序方式: 共有957条查询结果,搜索用时 15 毫秒
81.
IrnmobilisedaIninoacylaseisanotablecatalystforthekineticresolutionofN-acetyl-D,L-aIninoacidsandquitealotofresearchworkhasbeeninvolvedonaminoacylase~bilisationswithitscarriers.lTheauthorshaverePortedthattheaIninosilicagelspreparedbyanlinProvedmethodwereeffechveforchymotryPsininunobilisahon,'l'butitwasnotproperforaIninoacylasetriobilisahon.InordertodevelopasahsfactorysurfacesmictUreofsilicagelsforaIninoacylasetriobilisation,tWokindsofreactivegrouPs,theN,N-diethylaIninogrouPandthehydroxygr…  相似文献   
82.
磁共振现代射频脉冲理论在非均匀场成像中的应用   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
在磁共振非均匀场成像中,传统的射频脉冲导致回波信号的衰减.为了减小和消除这种磁共振信号的衰减,在讨论了经典理论的基础上根据非线性动力学中的逆散射理论和Shinnar-Le Roux方法导出了用于非均匀场成像的射频脉冲设计方法.模拟结果表明,采用逆散射理论和Shinnar-Le Roux方法优化的脉冲序列可以明显提高信号的信噪比. 关键词: 磁共振成像 射频脉冲 非线性系统  相似文献   
83.
DelphiniumsoulieiFranch,distributedintheSouthwestofGansuProvince,WestofSichuanProvince,andtheQinghaiProvinceofChina,isreportedtopossessantipyretic,antitoxic,antidysenteric,andantidiarrhealactivities.linthisstUdy,twonewditerpenoidalkaloidswereisolatedfromthewholeplantsofD.soulidi.TheirstructUreswereestablishedassoulineA(l)andsoulineB(2)onthebasisofspectraldata.SoulineA(l)wasisolatedascolorlesscrystals.Themolecularionpeakatm/z477.2678initsHREIMSrevealedthemolecularformulaC26H39NO7(cafe…  相似文献   
84.
85.
PreviousinvestigationsrevealedthatsomeVitisspeciesarerichinoligostilbenes'-'.InthecontinuinginvestigationforoligostilbenesfromVitisspp-,wehaveisolatedanoveltetrastilbene,davidolA1,alongwithresveratrol',( )-E-viniferin',ampelopsinC',ampelopsinE',vitisinAl'3andhopeaphenol7-9fromthestemsofVitisdavidiiFoex9.ThedriedpowderedstemsofVdavidiiFoex.wasextractedwithacetone.TheacetoneextractwasthenconcentratedunderreducedpressureandfractionatedbyaseriesofsolventpartitionintoanEtOAc-solublephenolicfr…  相似文献   
86.
祁步嘉  唐洪庆  周祖英 《物理》2002,31(1):36-39
采用双飞行时间法创建了一台非常规快中子飞行时间谱仪,排除了用D(d,n)^3He中子源测量8-13MeV能区次级中子双微分截面时源中破裂中子群对次级中子能谱测量的干扰,结合常规快中子飞行时间谱仪的测量,实现了用D(d,n)^3He中子源开展8-13MeV中子能区次级中子双微分截面的测量。  相似文献   
87.
We report that the nanostructures of poly(styrene‐block‐4‐vinylpyridine) block copolymer (PS‐b‐P4VP) thin film on a wafer substrate can be re‐assembled by sequential vapor treatment using selected solvents. Metal or other inorganic nanoparticles that were randomly pre‐loaded inside or on the surface of PS‐b‐P4VP thin film could be pulled to the rim of PS and P4VP along with the movements of PS and P4VP blocks during the treatment. As a result, the patterned polymeric or inorganic/polymer composite nanoisland and nanoring arrays were fabricated.

  相似文献   

88.
预处理对355nm激光作用下熔石英损伤增长的影响   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
测试了经化学蚀刻、紫外激光预处理及其共同处理后的熔石英355 nm激光损伤阈值;研究了处理前后其损伤斑面积随激光辐照脉冲数的增长情况。结果表明,处理后熔石英355 nm激光损伤阈值得到了提高,且损伤斑面积增长变慢。利用CO2激光对熔石英表面损伤点进行了修复处理,修复后的损伤点R-on-1抗损伤阈值和基底阈值相当,损伤增长得到有效抑制。  相似文献   
89.
光学元件激光预处理技术   总被引:2,自引:0,他引:2  
国外学者用1064 nm激光对pickoff镜进行预处理,发现损伤阈值平均提高38.8%。国内研究者用CO2激光中度抛光后,熔石英基片的损伤阈值提到了30%左右,激光波长、扫描方式等对处理效果影响也比较明显。介绍了三种公认的预处理机制,将离线与在线处理方式做了简单地比较,并对国内外激光预处理技术的发展和前景进行了展望。  相似文献   
90.
为了检测航天相机主动热控系统的功能、性能及可靠性,设计了主动热控仿真测试系统。依据传热学基本定律、航天器轨道理论和热控策略,给出了计算航天相机温度场的热网络数学模型,使主动热控系统能在模拟的空间热环境中连续工作,实现了对主动热控系统的闭环仿真测试。采用两个数字电位器相串联的方法模拟温度传感器的走势,得到的最大阻值为100 kΩ,精度达到10Ω,符合设计中对总电阻和电阻变化率的需求,实现了对主动热控系统的功能、性能以及可靠性的仿真测试。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号